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在张卿雄厚的资金支持下,ASML成功推出了PAS5500光刻系统,这无疑是公司发展史上的一座丰碑。
当前世界的半导体领域正面临着巨大挑战,光刻机的光源波长卡在了193纳米,迟迟无法突破。
由于水对193纳米光的折射率高达1.44,这意味着当原有的193纳米激光穿过水时,根据光学原理,其波长会被压缩,从而有可能降低许多。
然而,现实情况却并非如此简单。
当时的大多数企业都沉浸在干式光刻机成功的舒适圈内,不愿轻易冒险去尝试新的技术路线,也不愿意打破现有的安稳局面。
这个难题如同一块沉重的石头压在整个行业的心头,持续困扰着世界长达二十余年之久。
直到90年代末,这个问题才会得到解决。
而对于ASML来说,这无疑是一个重要的机遇。
凭借着张卿钞能力的支持,华积电与ASML展开紧密合作,并最终成功地研制出了全球首台利用水折射的沉浸式光刻机。
这一创新成果令人瞩目,其光源波长仅为132纳米,使得光刻机能够实现更高的分辨率。
通过这种浸入式光刻技术,原本看似无法逾越的157nm难关被轻松跨越,直接将芯片制程提升至65nm水平。
相较于之前广泛应用的90nm工艺而言,65nm工艺具有显着优势。
它使得CPU内部能够集成更多数量的晶体管,为处理器赋予更强大的功能和卓越的性能表现。
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这不仅是技术的突破,更是半导体产业向前迈进的关键一步。
与此同时,65纳米工艺还能带来一个显着的好处:它使得CPU的核心面积得以进一步缩小。
这意味着在同样大小的晶圆上,可以制造出更多的CPU核心,从而有效降低生产成本。
不仅如此,这种工艺还能降低处理器的功耗,减少处理器的发热量,并在一定程度上提高处理器的极限频率。
基于以上优势,兴华科技预计将在未来三个月内推出一款全新架构的65纳米工艺制程的桌面处理器——蛟龙贰系列。
然而,张卿并没有计划将这项先进的技术公之于众。
相反,他决定将其应用于军事工业领域,以实现该领域半导体设备的全面升级。
他认为,只有当他拥有足够强大的军事实力时,才适宜将这些技术推向市场。
毕竟,如果按照正常的历史进程,英特尔公司要到2006年才能掌握类似的技术。
沉浸光刻技术的成功研发给了张卿新的希望,他开始指示ASML投入深紫外光刻和极紫外光刻(EUV)的研究工作。
随着芯片的大成功,张卿终于有足够的底气来推动AI的发展了。
如今的世界,AI已经走过了漫长而曲折的道路。
从1956年到60年代初,那是AI的起步阶段,也是人工智能概念提出后的黄金时期。
当时,一系列惊人的研究成果纷纷涌现,如机器定理证明、跳棋程序等等,这些成就引发了全球范围内的关注与热议,掀起了人工智能发展的第一个高潮。
然而,正如历史所证明的那样,任何事物都不可能一帆风顺。
接下来的时间,AI进入了一个艰难的反思发展期。
20世纪60年代至70年代初,人们对AI的期望被无限放大,但同时也带来了巨大的挑战。
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